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浸漬提拉涂膜機型號:HD-SYDC-300
更新時(shí)間:2019-03-29
產(chǎn)品型號:HD-SYDC-300
描述:浸漬提拉涂膜機型號:HD-SYDC-300
、產(chǎn)品應用
本產(chǎn)品主要用于溶膠-凝膠法等液相法制備薄膜材料。把潔凈干燥的基片浸入溶液中,通過(guò)預設置的浸漬時(shí)間、提拉速度、提拉度、鍍膜次數等參數,將浸漬后的基片以定速度慢慢提拉起來(lái),在基片的表面形成層納米的薄膜。

HD-SYDC-300浸漬提拉涂膜機型號:HD-SYDC-300的詳細資料:

浸漬提拉涂膜機型號:HD-SYDC-300

、產(chǎn)品應用

    本產(chǎn)品主要用于溶膠-凝膠法等液相法制備薄膜材料。把潔凈干燥的基片浸入溶液中,通過(guò)預設置的浸漬時(shí)間、提拉速度、提拉度、鍍膜次數等參數,將浸漬后的基片以定速度慢慢提拉起來(lái),在基片的表面形成層納米的薄膜。膜層厚度由提拉速度,液體濃度和液體粘度決定。
    采用溶膠-凝膠法鍍膜,隨著(zhù)基片從溶膠中提拉出來(lái),在基片上附著(zhù)層膜,稱(chēng)為 “濕凝膠膜”,隨著(zhù)“濕凝膠膜”膜層中溶劑的揮發(fā),膜層在基片上固化成為“干凝膠膜”。“干凝膠膜”經(jīng)過(guò)步的干燥及溫熱處理便得到所需的納米薄膜材料。

浸漬提拉涂膜機型號:HD-SYDC-300
 二、產(chǎn)品簡(jiǎn)介

    浸漬提拉鍍膜機是門(mén)為液相(別是sol-gel法)制備薄膜材料的研究作而,對不同液體通過(guò)浸漬提拉生長(cháng)薄膜。提拉速度、提拉度、浸漬時(shí)間、鍍膜次數(多次多層鍍膜)、鍍膜間隔時(shí)間均連續可調、控制。對鍍膜基質(zhì)無(wú)殊要求,片狀、塊狀、圓柱狀等均可鍍膜。運行穩定、作時(shí)液面無(wú)振動(dòng),可大提實(shí)驗度與實(shí)驗效率。
    適用于硅片、晶片、玻璃、陶瓷、金屬等所有固體材料表面涂覆。應用于研究、產(chǎn)品。
 
三、產(chǎn)品點(diǎn)

  1. 采用自主的的傳動(dòng)裝置;
  2. 關(guān)鍵零件來(lái)自中中臺灣及日本口,確保運行度及穩定性;
  3. 采用箱體式,鍍膜溶液及樣品均置于密閉箱體內,避免外界環(huán)境的干擾;前門(mén)及側面采用透明玻璃,便于觀(guān)察鍍膜過(guò)程;
  4. 多達6個(gè)參數自動(dòng)控制;提拉速度連續可調;
  5. 可自動(dòng)運行鍍膜,也可入手動(dòng)操作模式鍍膜;
  6. 7英寸觸摸屏使控制更方便,歷史運行記錄可方便查詢(xún);
  7. 、低速均運行平穩,作時(shí)液面無(wú)振動(dòng),使成膜更均勻;

四、參數

  1. 提拉速度范圍:1~10000 μm/s,小分辨率1μm/s;
  2. 適用基片尺寸:MIN 10×10 mm,MAX 300×300 mm,厚度 MAX 10mm。
  3. 浸漬時(shí)間:1~3600 s,小分辨率1s;
  4. 鍍膜次數:1~1000次,少1次;
  5. 每次鍍膜間隔時(shí)間:1~3600 s,小分辨率1s;
  6. 電源:220V/50Hz
  7. 速度度: -0.01% ~ +0.01%
  8. 大行程: 370 mm (以實(shí)際為準)

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